膜厚测量设备

产品优势:

软件自主开发

产品系列:

膜厚测量设备

设备技术参数:

产品尺寸:6’&8’&12’

操作:PC可实时显示晶圆状态信息

测量范围:5nm-100um(SiO2)

测量精度:<0.1nm or 0.1%

Aligner:吸附式,PEEK材质接触,精确定位wafer缺口

系统对接:客户需求Data上传CIM以及前后设备信息交互

产品特点:

支持多层高精度快速测量

支持多种复折射率模型(Cauchy, Cauchy-Urbach,Sellmeier,Drude-Lorentz,Tauc-Lorentz,Maxwell Garnett, Bruggeman EMA

具备大量材料数据库

可支持自由创建材料模型库,支持AI模型建立与测量

对标机型:

KLA:SpectraFilm,Aleris

x

    联系方式

  • 0512-63028889/63016669
  • 江苏省苏州市吴江经济开发区交通路1188号
  • chenyf@gaci-o.com
  • http://www.gacii.net  
  • 网站二维码

  • 微信公众号